چکیده به منظور بررسی تأثیر نانو ذرات نقره و نانو ذرات دیاکسید سیلیسبر Nannochloropsis oculata، این فیتوپلانکتون به مدت 72 ساعت طبق استاندارد شماره 201سازمان توسعه و همکاری اقتصادی در معرض غلظتهای 005/0، 010/0، 025/0، 050/0، 075/0 و 100/0 میلیگرم در لیتر نانو ذرات نقره و غلظتهای 75، 100، 150 و 200 میلیگرم در لیتر نانو ذرات دیاکسید سیلیسقرار گرفتند و در نهایت شاخصهای متوسط نرخ رشد ویژه، درصد بازدارنگی متوسط نرخ رشد ویژه و میزان رنگدانههای فتوسنتزی در هر غلظت محاسبه گردید. همچنین مقادیر غلظتهای بازدارنده (ICs)، از جمله غلظتهای بازدارنده میانی (IC50)، بر اساس درصد بازدارندگی متوسط رشد، بهوسیله نرمافزار پروبیت محاسبه گردید. طبق نتایج، نانو ذرات نقره در کمترین غلظت مورد بررسی سبب کاهش رشد و کاهش میزان رنگدانههای فتوسنتزی در فیتوپلانکتون مورد مطالعه گردیدند و با افزایش غلظت آنها به 075/0 و 100/0 میلیگرم در لیتر، سبب توقف کامل رشد گردیدند. غلظتهای مختلف نانو ذرات دیاکسید سیلیسسبب کاهش نرخ رشد و تراکم زیتوده فیتوپلانکتون گردیدند، اما سبب توقف کامل رشد نگردیدند. تاثیر سمیت نانو ذرات نقره و نانو ذرات دیاکسید سیلیس بر رنگدانههای فتوسنتزی در فیتوپلانکتون به غلظت نانو ذرات و مدت زمان رویارویی وابستگی نشان داد؛ بهطوریکه با افزایش غلظت و مدت زمان رویارویی، میزان کلروفیل aو b و کلروفیل کل و کارتنوئیدها کاهش معنیداری را نشان دادند. نانو ذرات نقره و نانو ذرات دیاکسید سیلیس در تمام غلظتهای مورد استفاده سبب ایجاد سمیت، افزایش درصد بازدارندگی متوسط رشد و کاهش میزان رنگدانههای فتوسنتزی گردیدند.
jami M J, Johari A, Behzadi tayemeh M, Abaie H. Study of the effect of silver nanoparticles (AgNPs) and silica nanoparticles (SiO2NPs) on growth indices and photosynthetic pigments of the phytoplankton, Nannochloropsis oculata. isfj 2025; 34 (3) :75-89 URL: http://isfj.ir/article-1-2857-fa.html
جامی محمدجواد، جوهری علی، بهزادی طائمه محمد، عبایی حسام الدین. مطالعه اثر نانو ذرات نقره (AgNPs) و نانو ذرات دیاکسید سیلیس (SiO2NPs) بر سنجههای رشد و رنگدانههای فتوسنتزی فیتوپلانکتون Nannochloropsis oculata. مجله علمي شيلات ايران. 1404; 34 (3) :75-89
با کسب مجوز از دفتر کمیسیون بررسی نشریات علمی وزارت علوم، تحقیات و فنآوری مجله علمی شیلات بصورت آنلاین می باشد و تعداد محدودی هم به چاپ می رساند. شماره شاپای جدید آن ISSN:2322-5998 است